유연성 반도체적 그라파이트는 어떤 오일 공동도 분할하지 않습니다

반도체 흑연 부분

• 작업 원칙

이온 임플랜터는 다수의 어플리케이션과 고압력 작은 가속기 중 하나입니다. 그것은 이온 소스로부터 필요한 이온을 얻고, 가속 뒤에 수백의 킬로볼트의 에너지와 이온 빔을 획득합니다. 그것은 반도체 물질, 대규모 집적 회로와 장치의 이온 주입을 위해 사용됩니다. 그것은 또한 표면변형과 금속 물질군의 제조업을 위해 사용됩니다. 영화 기타 등등.

• 처리 흐름

오우 세정 : 10 분 동안 초음파 세척. 저항률 ≥2MΩ-cm, 정제수를 사용합니다.
오우 건조 : 어떤 오일 공동, 2 시간, 온도 ≥200C
오우 포장 : 어떤 맨 손, 반도체급 이소프로필 알코올 제거제, 순수 등급 도구, 분리된 HDPE와 버블 필름 패키징, 진공 열 실링 백, 플라스틱 골판지 기지
오우 브랜드 : 무균실 인쇄 라벨, 안쪽이고 외부 패키징, 반도체 등급 먼지 없는 라벨용지를 위한 이중층 브랜드

• 애플리케이션

이온 이식된 흑연 부분은 반도체 응용 중 하나입니다. 얇은 결이고 고밀도 흑연은 (이온 빔 충격 또는 플라스마 빔과 같이) 극단적으로 가혹한 근무 조건 하에 강한 부식 저항성을 나타내고, 차폐로서 사용될 수 있습니다. 이튼, Axcelis, 큐텀, 베리안, 니신, 아맛, LAM과 타장비와 유사합니다.

반도체 산업에서, 고청정도 흑연은 주로 가열 시스템, 절연 덥개, 전극, 등으로 존재합니다. 나름대로 고청정도 흑연의 사용은 또한 고청정도 흑연의 고온저항을 충분히 사용합니다. 부식 저항성, 내 산화성과 전기적이고 열 지중과 같은 고청정도 흑연의 이점이 더 마모 환원되고 에너지 절약형인 공작물 긴 수명을 만드는 반도체 산업에 적용되었습니다. 우리의 회사는 정확히 흑연을 제조하기 위해 독일 반도체급 그라파이트 재료를 사용합니다 소비재의 표준 부품과 주문 제작된 상술을 제공한 이온 주입을 위해.
고청정도 흑연은 획일적이고 미세 입자의 특성에 따라 낮은 원자 번호 소재로서 사용될 수 있습니다. 그것은 이온과 플라스마에 대한 강한 충격 저항, 강한 부식 저항성, 고순도, 어떤 금속 이온, 반도체에 대한 어떤 오염도 가지고 있지 않고 이온 주입 장치에서 노출된 금속 부품류가 고손실을 일으키고 따라서, 상응하는 흑연 부분을 차폐 덮개로 이용할 것입니다. 늘어서는 플라스마 CVD 플라스마 프크드 서셉터, 전극실, 노즐, 말 많은 전극, 모프크드 서셉터, 기타 등등을 위한 부분.

• 장점

상등품, 맞춤 주문, 빠른 전달